Bildarchiv der Pressestelle

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	Bildnr. NNA8000: Im Reinraum des Kieler Nanolabors verhindert das gelbe Licht die ungewollte Belichtung von Fotolacken in der Fotolithografie. Im Vordergrund arbeitet ein Forscher an einer kombinierten Ionen-/Elektronenstrahllithographie-Anlage. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
	Bildnr. NNA8002: Im Reinraum des Kieler Nanolabors verhindert das gelbe Licht die ungewollte Belichtung von Fotolacken in der Fotolithografie. Im Vordergrund arbeiten zwei Forscher an einer kombinierten Ionen-/Elektronenstrahllithographie-Anlage. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
	Bildnr. NNA8004: Im Reinraum des Kieler Nanolabors: Eine kombinierte Ionen-/Elektronenstrahllithographie-Anlage. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
	Bildnr. NNA8006: Im Kieler Nanolabor: Ein Forscher arbeitet an einer kombinierten Ionen-/Elektronenstrahllithographie-Anlage. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
	Bildnr. NNA8007: Im Kieler Nanolabor: Ein Forscher arbeitet an einer kombinierten Ionen-/Elektronenstrahllithographie-Anlage. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
	Bildnr. NNA8008: Im Kieler Nanolabor: Ein Forscher arbeitet an einer kombinierten Ionen-/Elektronenstrahllithographie-Anlage. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel

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