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Bildnr. NNA8010: Im Reinraum des Kieler Nanolabors: Zwei Forscher arbeiten an einer kombinierten Ionen-/Elektronenstrahllithographie-Anlage. Das gelbe Licht verhindert die ungewollte Belichtung von Fotolacken in der Fotolithografie Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel |
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Bildnr. NNA8016: Im Reinraum des Kieler Nanolabors. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel |
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Bildnr. NNA8018: Im Reinraum des Kieler Nanolabors. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel |
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Bildnr. NNA8019: Im Reinraum des Kieler Nanolabors. Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel |
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Bildnr. NNA8020: Im Reinraum des Kieler Nanolabors, Fotolithgraphie Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel |
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Bildnr. NNA8021: Im Reinraum des Kieler Nanolabors, Fotolithgraphie Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel |
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