Bildarchiv der Pressestelle
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Bildnr. NNA8010:
Im Reinraum des Kieler Nanolabors: Zwei Forscher arbeiten an einer kombinierten Ionen-/Elektronenstrahllithographie-Anlage. Das gelbe Licht verhindert die ungewollte Belichtung von Fotolacken in der Fotolithografie
Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
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Bildnr. NNA8016:
Im Reinraum des Kieler Nanolabors.
Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
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Bildnr. NNA8018:
Im Reinraum des Kieler Nanolabors.
Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
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Bildnr. NNA8019:
Im Reinraum des Kieler Nanolabors.
Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
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Bildnr. NNA8020:
Im Reinraum des Kieler Nanolabors, Fotolithgraphie
Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
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Bildnr. NNA8021:
Im Reinraum des Kieler Nanolabors, Fotolithgraphie
Bildnachweis: Foto: Jürgen Haacks / Uni Kiel
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Tel. 0431 880-7416, Fax 0431 880-1355,
E-Mail jhaacks@uv.uni-kiel.de.
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